湿法研磨
纳米级循环砂磨机 Zeta® RS
创新湿法研磨技术
纳米级循环砂磨机Zeta®RS是继成熟技术的耐驰棒销式砂磨机Zeta-大流量循环式研磨系统之后，在成熟稳定的纳米砂磨机基础上开发的新一代产品。
Zeta®RS所涉及的应用领域是其它棒销式砂磨机无法实现的。
高效离心分离系统可以使用最小直径为30μm到300 μm的研磨介质连续运行操作。
它是专门为湿法研磨、分散工艺，特别是纳米范围内的“温和分散”而设计的。
这种机型很容易操作，使用起来是一种乐趣。
Zeta®RS研磨机的研磨筒可以多个位置旋转和升降，方便清空物料， 添加研磨珠和清洗，研磨过程在水平位置进行。
关注客户利益
- 紧凑型设计，占地面积小
- 腔体可旋转，易于操作
- 非常易于清洁和使用，防止研磨介质损失
- 可使用极小的研磨介质，范围为 30 μm - 300 μm
- 采用 ODC/SDC 分离系统，不会有筛网堵塞
- 研磨系统可用的各种材料（可以互换）
- 研磨腔内配件的材料有多种选择（可组合使用）
产品咨询
技术
- 四种研磨筒的尺寸：2 l, 4 l, 10 l 和 25 l
- 结构紧凑
- ATEX-conform 设计
- 高效离心式分离系统
- 研磨介质细度50 到300 µm
- 内置研磨介质格栅收集盘，防止物料损失
- 研磨筒体可转向或在轨道上移动，便于维护维修
- 研磨主轴及进料泵的驱动由变频器控制
- 物料的流量由流量计控制
- 压力由压力传感器控制
- 产品进料和出料的温度可以测量，如果需要，冷却水温可测量
- 研磨筒冷却水流量测定
- 研磨筒体用不锈钢材料。若要耐磨，防腐蚀和防金属污染，则可采用以下几种材料：碳化硅，氧化硅，氧化锆及聚氨酯
操作
在Zeta®RS机器系列的开发过程中，特别强调了易用性。在不损失研磨介质的情况下，很容易完成机器的填充和排空以及维修和清洁。
- 可定位研磨腔
- 集成的可移动研磨介质收集盘
- 为了实现更高的可用性，Alpha®LabZeta®RS至Zeta®RS 10型可选装旋转安装研磨腔
装填位置
运行位置
排料和清洗位置
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